torsdag 26 februari 2015

USA och Japan tillträder den s.k. Haagöverenskommelsen om internationell registrering av mönster

Både USA och Japan tillträder den s.k. Haagöverenskommelsen om internationell registrering av mönster.

Det innebär att man nu kan ansöka om mönsterskydd internationellt via det internationella organet World Property Organization (WIPO). En fördel är bland annat att man slipper betala varje lands platsombudsarvoden.

Från och med den 13 maj 2015 är det alltså möjligt att ansöka om internationellt mönsterskydd i USA och Japan via WIPO.

Vill du ha hjälp att skydda din design? Vi är specialister på mönsterskydd. Kontakta oss.